Lorsque les impôts couverts ou le résultat qualifié sont corrigés en application des articles 223 VO decies, 223 VU sexies, 223 VX et 223 VX quater, du III de l'article 223 WH bis et de l'article 223 WS quinquies, le taux effectif d'imposition et l'impôt complémentaire du groupe d'entreprises multinationales ou du groupe national, au titre d'un exercice antérieur, sont recalculés conformément aux règles prévues au paragraphe 1 de la sous-section 3 de la section III et aux sous-sections 1 et 2 de la présente section.

Le montant d'impôt complémentaire additionnel qui en résulte est dû au titre de l'exercice au cours duquel le nouveau calcul est effectué.

Lorsqu'un impôt complémentaire additionnel est dû au titre d'un exercice antérieur et que le groupe d'entreprises multinationales ou le groupe national ne réalise pas de bénéfice qualifié net au titre de l'exercice au cours duquel le nouveau calcul est effectué, le bénéfice qualifié de chaque entité constitutive située dans l'Etat ou le territoire est égal au rapport entre l'impôt complémentaire affecté à celle-ci conformément aux articles 223 WB ter et 223 WB quater et le taux minimum d'imposition.

Lorsqu'un impôt complémentaire additionnel est dû en application de l'article 223 VT quater, le bénéfice qualifié de chaque entité constitutive située dans l'Etat ou le territoire est égal au rapport entre l'impôt complémentaire affecté à celle-ci conformément aux articles 223 WB ter et 223 WB quater et le taux minimum d'imposition.

L'affectation est effectuée au prorata, pour chaque entité constitutive, du montant égal à la différence entre, d'une part, le produit du résultat qualifié par le taux minimum d'imposition et, d'autre part, les impôts couverts corrigés.

L'impôt complémentaire additionnel n'est affecté conformément au présent article qu'aux seules entités constitutives auxquelles s'applique l'article 223 VT quater.

Lorsqu'un impôt complémentaire additionnel est affecté à une entité constitutive en application de la présente sous-section et des articles 223 WB ter et 223 WB quater, cette entité est considérée comme une entité constitutive faiblement imposée pour l'application des sous-sections 2 et 3 de la section V.